二次电子像的衬度主要是表面形貌衬度,通常只反映样品表面10nm左右的形貌特征。

试样表面的凹凸起伏导致电子束扫描过程中不同像元的倾角不同,从而发生的二次电子强度上的变化而产生衬度。随入射电子束与试样局部表面法线的夹角增大,二次电子发射强度提高,在图像上显示出较明亮的点,反之则为较暗的点。亦因此,适当的试样倾角能改善扫描电镜二次电子像的图像质量。

二次电子像

背散射电子像的主要衬度是成分衬度。

序数较大的原子更容易令电子背散射,强度大,在图像上显示较高亮度,原子序数低的区域则较暗。同时,背散射需要在更深深度下进行,且区域较大,所以虽然分辨率不如二次电子,却能互相结合来判断一些薄区的厚度。

背散射电子像

电子背散射衍射技术是基于扫描电镜中电子束在倾斜样品表面激发出并形成的衍射菊池带的分析从而确定晶体结构、取向及相关信息的方法。入射电子束进入样品,由于非弹性散射,在入射点附近发散,在表层几十纳米范围内形成一个点源。由于其能量损失很少,电子的波长可认为基本不变。这些电子在反向出射时与晶体产生布拉格衍射,称为电子背散射衍射。从其中我们除去可以得到形貌相关的定量信息外,还可以得到各晶粒的取向,不同相的分布,晶界的类型甚至位错密度的高低等定量信息。

EBSD

扫描电镜测试 Scanning Electron Microscope  Testing

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