SEM、TEM测试常见20问

 1.请问样品的的穿晶开裂和沿晶开裂在SEM图片上有各有什么显着的特征？

答：在SEM图片中，沿晶开裂能够清楚地看到裂纹是沿着晶界打开，且晶粒晶界显着；穿晶开裂则是裂纹在晶粒中打开，晶粒晶界都较含糊。

2.做TEM测验时样品的厚度最厚是多少?

答：TEM的样品厚度最好小于100nm，太厚了电子束不易透过，剖析效果欠好。

3.做TEM测验时样品有什么要求？

答：很简单，只需不含水分就行。假如样品为溶液，则样品需求滴在必定的基板上（如玻璃），然后枯燥，再喷碳就能够了。假如样品自身导电就无需喷碳。

4.水溶液中的纳米粒子怎么做TEM？

答：透射电镜样品必须在高真空中下检测，水溶液中的纳米粒子不能直接测。一般用一个微栅或铜网，把样品捞起来，然后放在样品预抽器中，烘干即可放入电镜里边测验。 假如样品的尺度很小，只要几个纳米，选用无孔的碳膜来捞样品即可。

5.粉末状样品怎样做TEM？

答：扫描电镜测验中粉末样品的制备多选用双面胶干法制样，和选用适宜的溶液超声波湿法制样。分散剂在扫描电镜的样品制备中效果并不显着，有时会带来相反的效果，如枯燥时析晶等。

6.EDS与XPS测验时采样深度的不同？

答：XPS采样深度为2-5nm，我想知道EDS采样深度大约1um.

7.能谱，有的叫EDS，也有的叫EDX，究竟哪个更适宜一些？

答：能谱的全称是：Energy-dispersive X-ray spectroscopy 世界标准化术语: EDS-能谱仪 EDX-能谱学

8.TEM用铜网的孔洞尺度多大？

答：捞粉体常用的有碳支持膜和小孔微栅，小孔微栅上其实也有一层超薄的碳膜。拍高分辩的，试样的厚度最好要控制在20 nm以下，所以一般直径小于20nm的粉体才直接捞，颗粒再大的话最好是包埋后离子减薄。

9.在透射电镜上调查到纳米晶,在纳米晶的周围有非晶态的区域,我想对非晶态的区域升温或许给予必定的电压(电流),使其发生改变,原位调查起改变状况？

答：用原子力显微镜应该能够解决这个问题。

10.Mg-Al合金怎样做SEM，二次电子的？

答：这种样品的正确测法应该是先抛光，再腐蚀。若有蒸发现象，能够在样品外表渡上一层金。

11.陶瓷的TEM试样要怎样制造？

答：切片、打磨、离子减薄、FIB。

12.透射电子显微镜在高分子资料研讨中的运用方面的资料？

答：殷敬华 莫志深 主编 《现代高分子物理学》（下册） 北京：科学出版社，2001[第十八章 电子显微镜在聚合物结构研讨中的运用]

13.透射电镜中的微衍射和选区衍射有何差异？

答：差异就是电子束斑的巨细。选区衍射束斑大约有50微米以上，束斑是微米级就是微衍射。微衍射首要用于判定一些小的相

14.SEM怎么看氧化层的厚度？

答：经过扫描电镜看试样氧化层的厚度，直接掰开看断面，这样准确吗？ 经过扫描电镜看试样氧化层的厚度，假如是玻璃或陶瓷这样直接掰开看断面是能够的；假如是金属资料可能在切开时，样品结构发生改变就不行了，所以要看是什么资料的氧化层。

15.TEM对微晶玻璃的制样要求

答：先磨薄片厚度小于500um,再到中心透射电镜制样室进行钉薄，然后离子减薄。

16.电子能量丢失谱由哪几部分组成？

答：EELS和HREELS是不同的体系。前者一般合作高分辩透射电镜运用，并且最好是场发射枪和能量过滤器。一般分辩率能到达0.1eV－1eV，首要用于得到元素的含量，尤其是轻元素的含量。并且能够轻易得到相应样品区域的厚度。而HREELS是一种高真空的单独设备，能够研讨气体分子在固体外表的吸附和解离状况。

17.研讨外表活性剂构成的囊泡，许多文献都用cryoTEM做，形状确实很明晰，但所里只能作负染，能很好的看出囊泡的壁吗？

答：高分子样品在电子束下结构容易损坏，用冷冻台是最好的方法。做负染是能够看到壁的概括，可是假如要详尽调查，没有冷冻台大概不行吧？我看过的高分子样品都是看看概括就现已很满足了，从来没有提到过更高要求的。

18.hkl、hkl指的是什么？ 

答：（hkl）表明晶面指数{hkl}表明晶面族指数 [hkl]表明晶向指数 表明晶向族指数 (h,k,-h-k,l)六方晶系的坐标表明法林海无边

19.氧化鋁TEM选取什么形式？

答：氧化铝最好用lowdose形式，这样才会尽量不损坏晶体结构。

20.电镜测验中调高扩大倍数后，光斑亮度及巨细会怎样改变？

答：变暗，由于物镜强了，焦距小了，所以一部分电流被遮挡住了，而亮度是和电流成正比的。由于总光束的强度是必定的，取扩大倍率偏大则经过透镜的电子束少，反则电子束大。调节brightness就是把有限的光聚在一起。